Dicke von Wafern exakt mit Weißlichtinterferometer messen

Bild 1 | Bei der Herstellung von Halbleiterwafern müssen Dicke und Oberflächenqualität  nanometergenau sein. Die Wafer-Dickenmessung erfolgt daher mit Weißlichtinterferometern, die aus einem kompakten Sensor und einem Controller bestehen.
Bild 1 | Bei der Herstellung von Halbleiterwafern müssen Dicke und Oberflächenqualität nanometergenau sein. Die Wafer-Dickenmessung erfolgt daher mit Weißlichtinterferometern, die aus einem kompakten Sensor und einem Controller bestehen.Bild: Micro-Epsilon Messtechnik GmbH & Co. KG

Bevor aus Silizium Halbleiter-Chips entstehen, sind viele Prozessschritte notwendig. Zunächst werden aus einem kristallinen Silizium-Ingot etwa 1mm dünne Scheiben geschnitten, die anschließend geläppt werden. Dabei erhalten sie die gewünschte Dicke und Oberflächengüte. Erst dann können aus den Wafern mit weiteren Verfahren Halbleiter-Chips gefertigt werden.

Bild 2 | Durch Reflektion an der Vorder- und Rückseite eines transparenten Materials, wird die Dicke mit hoher Genauigkeit bestimmt.
Bild 2 | Durch Reflektion an der Vorder- und Rückseite eines transparenten Materials, wird die Dicke mit hoher Genauigkeit bestimmt.Bild: Micro-Epsilon Messtechnik GmbH & Co. KG

Läppvorgang überwachen

Mit modernen Läppmaschinen lassen sich die Oberflächen extrem genau bearbeiten. Bei Silizium-Wafern sind Ungenauigkeiten der Oberfläche im Nanometer-Bereich notwendig. Dazu wird zwischen Läppscheibe und Wafer ein Gemisch aus Flüssigkeit und Schneidkörnern gebracht, welche die Oberfläche spanend bearbeiten. Dadurch dass sich Läppscheibe und die Wafer gegeneinander um unterschiedliche Achsen drehen, wird Material abgetragen und die Oberfläche geglättet. Um die geforderten Genauigkeiten bei Oberflächengüte und Dicke zu erreichen, muss die Dicke des Wafers gemessen werden. Idealerweise passiert dies während des Verfahrens, das sich dadurch auf Basis der Messwerte exakt steuern lässt. Eine Messmethode, die Dickenmessungen mit Genauigkeiten im Nanometerbereich ermöglicht, ist die Interferometrie.

Um die Interferometrie als messtechnische Verfahren einzusetzen, wird ein Lichtstrahl aufgeteilt, sodass die beiden Teilstrahlen unterschiedliche Wege zurücklegen. Anschließend werden die Teilstrahlen überlagert, und die entstehende Interferenz wird beobachtet. Wenn sich nun die Länge einer der beiden Teilstrahlen ändert, ist dies im Interferenzmuster sichtbar. Ändert sich diese Länge um eine halbe Wellenlänge des verwendeten Lichts, so führt das zu einem kompletten Wechsel von konstruktiver Interferenz zu destruktiver Interferenz. Soll das Verfahren zur Dickenmessung eingesetzt werden können die beiden Strahlen miteinander interferieren, die von der Vorder- und der Rückseite der Schicht reflektiert wird. Dadurch ist das Messergebnis gleichzeitig unabhängig vom Abstand zum Messobjekt.

Weißlicht-Interferometer

Die Interferenz, so wie sie oben beschrieben wurde, funktioniert mit monochromatischem Licht – beispielsweise aus einem Laser. Bei Änderung der gemessenen Länge wechselt das Interferenzmuster abwechselnd von Hell zu Dunkel. Prinzipiell funktioniert Interferometrie aber auch mit weißem Licht. Wichtig ist lediglich, dass eine kohärente Lichtquelle verwendet wird. Für die Weißlicht-Interferometrie eignen sich etwa Superlumineszenz-Dioden (SLD). Diese kombinieren die Vorteile von Laserdioden und herkömmlichen LED. SLD haben eine hohe Ausgangsleistung und gleichzeitig ein breites Spektrum. Micro-Epsilon bietet Interferometer an, die mit solchen SLD arbeiten. Der Lichtstrahl wird geteilt, die Teilstrahlen durchlaufen die beiden Wege und interferieren danach. Für die Messung wird das interferierende Licht zunächst in seine spektralen Bestandteile aufgespalten und anschließend auf eine Sensorzeile abgebildet, die das gesamte Spektrum aufnimmt. Zur Auswertung dieses Signals wird dann eine Fouriertransformation durchgeführt. Die einzelnen Peaks im Frequenzspektrum stehen dann für eine konstruktive Interferenz, woraus sich die Differenz der beiden Wege ergibt. Wenn die beiden Teilstrahlen durch Reflektion an der Vorder- und Rückseite eines transparenten Materials entstehen, wird so die Dicke mit hoher Genauigkeit bestimmt.

Seiten: 1 2



  • Mind the Gap

    Conventional line-scan hyperspectral imagers are fundamentally constrained so they cannot simultaneously provide good imaging and high throughput needed for large SNR. To…


  • Gelungene Premiere

    Das von HD Vision Systems und Partnern (AT Sensors, Balluff, Lucid Vision, Pepperl+Fuchs, …) erstmalig organisierte Intelligent Automation & Inspection Forum im…


  • Licht vermessen

    Für die Vermessung der Wirkungen von Licht gibt es zwei Möglichkeiten: eine neutrale und eine menschenbezogene. Jede der beiden besitzt ein eigenes…


  • Welcome back

    Vom 20. bis 21 Mai findet das Comeback der CHII (Conference on Hyperspectral Imaging in Industry) in Graz statt. An den zwei…


  • Premiere!

    Da die Messe Control auf einen Zwei-Jahres-Rhythmus gewechselt ist und erst 2027 wieder stattfindet, veranstaltet die P. E. Schall in diesem Jahr…


  • Vision Weighing

    Modern egg grading increasingly relies on vision-based systems to support consistent quality assessment and efficient grading at high capacity. In Sanovo grading…


  • CRA & Machine Vision

    Für IDS beeinflusst der CRA vor allem, wie wir sicherheitsrelevante Rückmeldungen aus dem Feld verarbeiten: Hinweise müssen schnell bewertet und in Korrekturen…


  • Thomas Hopfner

    Machine-Vision-Software ist eine wesentliche Komponente von modernen Produktionssystemen.


  • Anne Wendel

    Beim Cyber Resilience Act (CRA) handelt es sich um eine neue europäische CE-Kennzeichnungsverordnung, die in Gänze ab Dezember 2027 Anwendung findet.


  • I’m (not) on fire

    Industrial lumber manufacturing is a high-speed, high-volume industry that operates machinery with intense friction at all most stages of a production. Common…